二氧化硅抛光液

　　

氧化硅抛光液是以高纯度硅溶胶为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、蓝宝石等的抛光加工

产品介绍

根据不同的抛光要求可分为不同粒度（10~150 nm）的产品。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。

 高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的（可以生产140 nm）

 粒度可控，根据不同需要，可生产不同粒度的产品（60-120 nm）

 高纯度（Cu含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污

高平坦度加工，本品抛光利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工

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产品组成

成份	含量（w%）
SiO2	15～30
Na2O	≤0.3
重金属杂质	≤50 ppb

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应用领域

1、 光通讯领域，配合公司专门为光纤连接器开发的抛光产品，能达到超精细抛光效果，抛光后连接器端面没有划伤和缺陷，3D指标和反射衰减指标达到国际标准。

2、 硬盘基片的抛光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点。

3、 硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛，具有抛光速率高，抛光后易清洗，表面粗糙度低，能够得到总厚偏差（TTV）极小的质量表面。

4、其他领域的应用，如不锈钢、光学玻璃等领域，抛光后能达到良好的抛光效果。

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环保健康安全注意事项：

l 车间内必须保持良好的通风状况；

l 避免放置在儿童能接触到的地方，如与眼睛或皮肤接触，请用大量清水冲洗；

l 在使用时请勿进食或吸烟；

l 切勿将废弃抛光剂排放入下水道、水体或土壤，废置抛光液应符合当地环保标准来处理；

       l 使用前可参阅安全技术说明书。