全国免费订购热线：18068053963
最新动态：
微表面加工方式2017-01-04
玻璃研磨理论2016-12-08
单晶金刚石材料的去除方式2016-12-02
Iphone7 高光黑工艺亮相2016-10-20
研磨加工技术分类2016-10-07
不锈钢研磨材料及研磨工艺2016-10-04
研磨技术的国内外研究概况和发展2016-09-29
磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响32016-09-28
磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响22016-09-26
磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响2016-09-25
新光速阐述铝及铝合金表面抛光2016-09-23
我司利用复合抛光液在CMP中的运用2016-09-21
功能陶瓷研磨抛光课题2016-09-19
精密研磨研究的重大意义2016-09-17
新光速谈改善抛光垫性能的途径－－沟槽2016-09-14
机械化学研磨2016-09-13
抛光垫的种类和性能指标2016-09-12
抛光垫在研磨抛光中的作用2016-09-10
稀土抛光粉的作用机理2016-09-08
超精密研磨盘如何保证其平整度2016-09-07
全国服务热线：18068053963
地 址：太仓双凤镇新湖维新路一号
电 话：0512-33016116
传 真：0512-33016116
一站式研磨抛光 PVD代加工：http://xgsgd.com
新光速动态
发布日期：2016-09-10 09:48:43
抛光垫作为CMP系统的重要组成部分,其性能直接影响CMP过程及抛光效果"抛光
垫的主要作用:
(1)能够协助抛光液在抛光过程中,有效均匀的运送抛光液到抛光垫的不同区域,
并且能够提供新补充的抛光液进行一个抛光液的循环"
(2)顺利将旧的抛光液及抛光后的反应物!碎屑等排出"
(3)维持抛光垫涵养抛光液时,在抛光垫表面所形成的薄膜的厚度,此厚度对抛
光速率将会有显著的影响"
(4)抛光垫必须对抛光液具有良好保持性"加工时抛光垫必须涵养足够的抛光液,
才可以使CMP中的机械与化学反应充分的作用"
(5)为了控制抛光过程的稳定!均匀性与再现性,抛光垫的材料物理性质!化学
性质及表面形貌等特性,都需要保持稳定"
