新光速与大家共勉PH在抛光液中的作用

抛光液中PH值参数是衡量一种液体性能是否稳定的重要因素。很多抛光液使用者并没有清楚的意识到这一点，他们往往对抛光液内的粒度分布，粒径大小，均匀性，配比等感兴趣，而忽略了一个重要的因素-PH值对整个液体状的的影响。

　　在化学性质的液体中，PH值的大小影响着液体性能的稳定。抛光液一般在微酸或者微碱的时候，对工件的抛光效果最佳，所能达到的表面粗超度最小。当PH值偏碱性时，粗超度变大。所以在配置这种液体的时候，我们不能忽略这一点，一定要反复试验，取得一个最佳稳定值。

　　抛光液的PH值是变化的。这是因为抛光液会随着时间的变化而变化。由于某些工件在抛光时产生水解作用, 在实际抛光过程中抛光液的pH 值会随抛光时间不断变化。在每次添加抛光液后, pH 值的变化最为剧烈。因此一开始先每隔15s 测量一次, 之后每隔1min 测量一次, 从而可得出不同初始pH 值的抛光液在抛光过程中pH 值的变化规律。在对不含有碱金属氧化物, 不会与水产生水解反应, 在抛光过程中抛光液的pH 值基本保持不变, 所以其抛光方法也不同。

　　当抛光液的PH值过小时，溶液呈酸性状态，一般抛光效果不太明显;而当溶液的PH值过大时，溶液呈碱性状态，腐蚀的效果往往比酸性效果好。

　　抛光液的化学抛光过程其实就是溶液对抛光元件表层的化学腐蚀作用，主要成分是二氧化硅，占整个比例的百分之七十，其余成分为碱金属氧化物，当抛光液为中性时，主要的化学作用表现为2InSb+6[O]→In2O3+Sb2O3，表面的抛光效果似乎不太明显。

　　当抛光液的PH值为9.6时，抛光液的机械作用远大于化学作用，去除速率比较大，导致抛光后抛光片表面产生高损伤层，粗糙度比较大;当抛光液的 pH值增大为10.84～11.34时，机械作用和化学作用达到一种对等状态时，此时化学作用的均匀性好，使得表面张力小，质量处理的一致性好，可以得到良好的表面抛光效果;当pH值大于11.67时，SiO2水溶胶在强碱的作用下，生成易溶于水的硅酸氨，使得硅溶胶中的SiO2颗粒不能起到磨削作用，变成透明的液体，此时机械作用基本失效，抛光以化学作用为主，表面蚀坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

　　抛光液PH值是抛光元件表面粗糙度的重要影响因素，他是抛光元件化学抛光的重要组成部分。事实证明，当抛光压力、温度等外界因素相匹配时，抛光时的最佳PH值应控制在11.25左右，这时候化学抛光和机械抛光的作用相平衡，抛光效果最佳!

　　所以，除了要对液体初始PH值进行检测试验外，我们还需对抛光液会随时间的变化而变化进行监测。观察它变化的规律，找出每个工件适合抛光的最佳状态，这样才能配制出高精密高效率的抛光液出来